a Aprobadas mediante Resolución del Director de la Oficina Española de Patentes y Marcas las Directrices de examen de Patentes, Modelos de Utilidad, Topografías de Semiconductores y Diseños Industriales

Fecha de publicación el 11/02/2019

Aprobadas mediante Resolución del Director de la Oficina Española de Patentes y Marcas las Directrices de examen de Patentes, Modelos de Utilidad, Topografías de Semiconductores y Diseños Industriales

Con fecha 6 de febrero de 2019 el Director de la Oficina Española de Patentes y Marcas, O.A. aprueba mediante resolución las Directrices de examen de Patentes, Modelos de Utilidad, Topografías de Semiconductores y Diseños Industriales.

Con la presente resolución se pretende proporcionar a los ciudadanos unas guías eficaces para la presentación, tramitación y concesión de estas modalidades de Propiedad Industrial.

Desde el Departamento de Patentes e Información Tecnológica de la OEPM se ha perseguido dar una mayor transparencia a los métodos de trabajo empleados y fomentar así una mejor comunicación entre todas los partes involucradas en el sistema nacional de concesión de estos títulos de Propiedad Industrial. El contenido de las Directrices responde a la necesidad de adaptación y evolución tanto a los sectores tecnológicos, presentes y futuros, como a las sentencias judiciales e interpretación de las leyes que la Oficina Española de Patentes y Marcas deberá de aplicar para el fortalecimiento del Sistema de Protección Industrial. El objetivo de este Sistema junto con el Sistema de Ciencia y Tecnología es el de generar conocimiento, fomentar la innovación y proteger adecuadamente los resultados obtenidos.

Cualquier comentario o sugerencia sobre estos documentos será muy apreciado, pudiendo remitirse por correo electrónico a la dirección: directrices-examen-patentes@oepm.es

La resolución con las directrices se peden descargar en el siguiente enlace: Resolución del Director y Directrices (7717.36 Kb)

 

Fuente: OEPM

 

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